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測量顯微鏡測量原理

2021-10-18(2035)次瀏覽

  隨著自動化測量技術的發展,測量顯微鏡在傳統的基礎上有了較大的改變,主要表現在兩個方面:一是成像瞄準系統已發展為使用CCD(Charge Coupled Device)成像瞄準技術。所成的像通過數據線傳送到計算機并顯示出來...

  隨著自動化測量技術的發展,測量顯微鏡在傳統的基礎上有了較大的改變,主要表現在兩個方面:一是成像瞄準系統已發展為使用CCD(Charge Coupled Device)成像瞄準技術。所成的像通過數據線傳送到計算機并顯示出來,這種成像方式比原來在目鏡視場中所形成的圖像更加直觀清晰,大大降低了對線瞄準誤差,那么測量顯微鏡測量原理是怎樣的呢?下面深視光谷小編來給大家介紹。

 

  測量顯微鏡測量原理:

 

  與STM類似,在AFM中,使用對微弱力非常敏感的彈性懸臂上的針尖對樣品表面作光柵式掃描。當針尖和樣品表面的距離非常接近時,針尖尖端的原子與樣品表面的原子之間存在極微弱的作用力,此時,微懸臂就會發生微小的彈性形變。針尖與樣品之間的力F與微懸臂的形變之間遵循虎克定律:F=-k*x ,其中,k為微懸臂的力常數。所以,只要測出微懸臂形變量的大小,就可以獲得針尖與樣品之間作用力的大小。 

測量顯微鏡

  針尖與樣品之間的作用力與距離有強烈的依賴關系,所以在掃描過程中利用反饋回路保持針尖與樣品之間的作用力恒定,即保持為懸臂的形變量不變,針尖就會隨樣品表面的起伏上下移動,記錄針尖上下運動的軌跡即可得到樣品表面形貌的信息。這種工作模式被稱為“恒力”模式,是使用最廣泛的掃描方式。

 

  AFM的圖像也可以使用“恒高”模式來獲得,也就是在X,Y掃描過程中,不使用反饋回路,保持針尖與樣品之間的距離恒定,通過測量微懸臂Z方向的形變量來成像。這種方式不使用反饋回路,可以采用更高的掃描速度,通常在觀察原子、分子像時用得比較多,而對于表面起伏比較大的樣品不適用。

 

  以上內容就是對測量顯微鏡測量原理的介紹了,測量顯微鏡主要使用與電子工業、五金行業、以及一些精密工程,在塑膠行業和醫療業,生物物醫學、公安系統等等有廣泛的應用,特別是在電子工業比如觀察電路板的構造,觀察零件直接的精確距離,是不可缺少的精密儀器。

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